北京星河湾小区-掏品新闻
北京星河湾小区-掏品新闻(文/朱道义 编辑/马媛媛)在全球半导体产业的复杂格局中,技术的竞争和合作一直是推动行业发展的关键因素。
12月26日消息,荷兰光刻机巨头ASML的CEO克里斯托弗·富凯(Christophe Fouquet)对全球芯片制造技术的差距发表了看法,引发业界的广泛关注。
富(fu)凯(kai)指(zhi)出(chu)尽(jin)管(guan)中(zhong)国(guo)一(yi)些(xie)企(qi)业(ye)在(zai)半(ban)导(dao)体(ti)领(ling)域(yu)取(qu)得(de)了(le)显(xian)著(zhu)的(de)进(jin)步(bu)但(dan)与(yu)行(xing)业(ye)内(nei)的(de)领(ling)头(tou)羊(yang)如(ru)I(I)n(n)t(t)e(e)l(l)台(tai)积(ji)电(dian)和(he)三(san)星(xing)相(xiang)比(bi)仍(reng)然(ran)存(cun)在(zai)1(1)01(1)5(5)年(nian)的(de)技(ji)术(shu)差(cha)距(ju)这(zhe)一(yi)观(guan)点(dian)不(bu)仅(jin)揭(jie)示(shi)了(le)全(quan)球(qiu)芯(xin)片(pian)制(zhi)造(zao)技(ji)术(shu)的(de)分(fen)布(bu)现(xian)状(zhuang)也(ye)反(fan)映(ying)了(le)中(zhong)国(guo)在(zai)全(quan)球(qiu)半(ban)导(dao)体(ti)产(chan)业(ye)链(lian)中(zhong)所(suo)面(mian)临(lin)的(de)挑(tiao)战(zhan)
在ASML看来,在无法获取先进极紫外光刻机(EUV)的情形下,即便运用一流的深紫外光刻机(DUV)设备,在工艺技术层面也难以企及台积电等厂商的高度。这是因为半导体制造工艺的精进是一个长期且复杂的过程,先进光刻机作为关键生产工具,对芯片制程的提升起着至关重要的作用,其技术优势难以通过其他手段轻易弥补。
作(zuo)为(wei)参(can)考(kao)A(A)S(S)M(M)L(L)及(ji)其(qi)合(he)作(zuo)伙(huo)伴(ban)从(cong)基(ji)础(chu)工(gong)作(zuo)到(dao)完(wan)成(cheng)商(shang)用(yong)机(ji)器(qi)再(zai)到(dao)构(gou)建(jian)E(E)U(U)V(V)生(sheng)态(tai)系(xi)统(tong)花(hua)了(le)2(2)0多(duo)年(nian)的(de)时(shi)间(jian)” 面对大孩子的取笑,小不点憨憨的笑着,黑亮的大眼眯成了月牙状,毫不在乎,坐在陶罐前用木勺舀奶,吃的很香甜。
据悉,美国方面还在向ASML施压,要求其停止在中国维护和维修DUV设备。然而,荷兰方面迄今尚未同意这一要求。目前,中国公司是ASML的主要客户之一。