楚天科技股份有限公司-掏品新闻（文/朱道义 编辑/马媛媛）在全球半导体产业的复杂格局中，技术的竞争和合作一直是推动行业发展的关键因素。

1(1)2(2)月(yue)2(2)6(6)日(ri)消(xiao)息(xi)荷(he)兰(lan)光(guang)刻(ke)机(ji)巨(ju)头(tou)A(A)S(S)M(M)L(L)的(de)C(C)E(E)O(O)克(ke)里(li)斯(si)托(tuo)弗(fu)富(fu)凯(kai)C(C)h(h)r(r)i(i)s(s)t(t)o(o)p(p)h(h)e(e)F(F)o(o)u(u)q(q)u(u)e(e)t(t)对(dui)全(quan)球(qiu)芯(xin)片(pian)制(zhi)造(zao)技(ji)术(shu)的(de)差(cha)距(ju)发(fa)表(biao)了(le)看(kan)法(fa)引(yin)发(fa)业(ye)界(jie)的(de)广(guang)泛(fan)关(guan)注(zhu)

富凯指出，尽管中国一些企业在半导体领域取得了显著的进步，但与行业内的领头羊如Intel、台积电和三星相比，仍然存在10-15年的技术差距。这一观点不仅揭示了全球芯片制造技术的分布现状，也反映了中国在全球半导体产业链中所面临的挑战。 山中多史前生物出没，时有遮蔽天空之巨翼横过，在地上投下大片的阴影，亦有荒兽立于峰上，吞月而啸，更少不了各种毒虫伏行，异常可怖。

在ASML看来，在无法获取先进极紫外光刻机（EUV）的情形下，即便运用一流的深紫外光刻机（DUV）设备，在工艺技术层面也难以企及台积电等厂商的高度。这是因为半导体制造工艺的精进是一个长期且复杂的过程，先进光刻机作为关键生产工具，对芯片制程的提升起着至关重要的作用，其技术优势难以通过其他手段轻易弥补。

作(zuo)为(wei)参(can)考(kao)A(A)S(S)M(M)L(L)及(ji)其(qi)合(he)作(zuo)伙(huo)伴(ban)从(cong)基(ji)础(chu)工(gong)作(zuo)到(dao)完(wan)成(cheng)商(shang)用(yong)机(ji)器(qi)再(zai)到(dao)构(gou)建(jian)E(E)U(U)V(V)生(sheng)态(tai)系(xi)统(tong)花(hua)了(le)2(2)0多(duo)年(nian)的(de)时(shi)间(jian)目送狩猎队伍离去，老族长石云峰领着群孩子来到村头的草地上，盘坐下来，道：“好了，你们这群皮猴子也该用功学习了。其他人也都露出异色，眼神火热，但很快又都熄灭了眸中的火焰，那种东西不是他们能得到的，远在山脉最深处，没人进的去。

据悉，美国方面还在向ASML施压，要求其停止在中国维护和维修DUV设备。然而，荷兰方面迄今尚未同意这一要求。目前，中国公司是ASML的主要客户之一。